APTES-SiO2的修饰原理与制备方法

2025-08-18 作者：ws 来源：

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产品介绍：

APTES-SiO2 以二氧化硅（SiO₂）为基质（可为纳米颗粒、微球、薄膜或介孔结构），表面通过共价键修饰APTES（3-氨丙基三乙氧基硅烷，一种硅烷偶联剂），使 SiO₂表面引入大量伯氨基（-NH₂）的功能化材料。

修饰原理与制备方法

APTES 的作用：

APTES 是一种常用的硅烷偶联剂，分子结构为NH2(CH2) 3Si(OC2H 5) 3，兼具两种反应性基团：

一端为乙氧基（-OC₂H₅）：可与 SiO₂表面的羟基（-OH）发生水解缩合反应，形成稳定的共价键；

另一端为氨基（-NH₂）：赋予 SiO₂表面氨基活性，可进一步与含羧基、醛基、活性酯等的分子反应。

制备流程：

预处理：

SiO₂基质需先经清洗（如超声处理去除杂质）和活化（如在酸性或碱性条件下处理，增加表面羟基数量），提升与 APTES 的反应效率。

修饰反应：

将 SiO₂分散于无水有机溶剂（如甲苯、乙醇）中，加入 APTES（用量通常为 SiO₂质量的 5%-20%），在回流条件下反应 4-24 小时（或室温搅拌过夜）；APTES 的乙氧基水解生成硅羟基（-Si-OH），与 SiO₂表面羟基缩合形成 Si-O-Si 键。

纯化：通过离心、洗涤（用乙醇或水去除未反应的 APTES），干燥后获得 APTES-SiO₂。

调控参数：

APTES 浓度越高，SiO₂表面氨基密度越大（但过高可能导致 APTES 自身聚合，形成多层覆盖）；

反应时间延长可提高修饰率，但超过 12 小时后提升趋缓；

溶剂极性影响反应速率：极性溶剂（如乙醇）中反应更温和，非极性溶剂（如甲苯）中易形成均匀修饰层。

名称：APTES-SiO2

产品规格：mg/g

纯度：95%+

保存方式：-20℃以下，避光，防潮

保质期限：12个月

用途：科研
温馨提示：仅用于科研,不能用于人体

图：

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