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金属有机框架UiO-66-F4 CAS：2170275-20-2的制备

2025-05-23 作者：wff 来源：

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产品介绍：

氟化UiO-66(Zr)是一种具有潜在医学应用的金属有机框架材料（MOF）。UiO-66(Zr)是一种由Zr离子和有机配体构建的结晶性材料，具有高度可调节的孔隙结构和表面功能性。氟化UiO-66(Zr)是通过在UiO-66(Zr)的结构中引入氟原子而得到的衍生物。氟化可以在材料的孔隙结构中引入额外空间，提供更多的吸附位点和增强材料的表面活性。氟化UiO-66(Zr)可以用作化合物传递系统的支架。其孔隙结构可以有效地将化合物负载于其内部，并且可以通过调节孔径和孔隙结构来控制化合物的释放速率和效果。这种材料在化合物递送中具有较高的稳定性和载药量，有助于提高化合物的靶向性和生物可用性。

制备：

1. 材料准备：

- 准备合成UiO-66(Zr)所需的原材料，包括锆（Zr）源（如ZrOCl₂·8H₂O）、有机配体（如对苯二甲酸（BDC））、溶剂（如DMF或DMSO）以及氟源（如氟化铵（NH4F）或氟化钙（CaF2））。

2. 合成过程：

- 将锆源和有机配体溶解在适当的溶剂中，得到均匀的反应溶液。

- 加入氟源以引入氟原子。氟源的浓度和加入方式可以根据需要进行调整。

- 将反应混合物转移到高压反应釜中，以控制反应温度和压力。通常情况下，反应在温度为120-220°C的条件下进行。

3. 晶体生长：

- 保持反应时间，通常为几小时到十几小时，以促成UiO-66(Zr)的晶体生长。

- 反应结束后，冷却反应釜。

4. 洗涤与活化：

- 通过离心和洗涤步骤去除未反应的物质和溶剂，将合成的产品分离出来。

- 对所得到的氟化UiO-66(Zr)进行活化，通常通过加热或在真空环境中处理，以去除残留的溶剂，提高孔隙率和吸附性能。

5. 表征：

- 使用X射线粉末衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、氮气吸附-脱附等方法对氟化UiO-66(Zr)进行表征，以确认其晶体结构、形貌和比表面积等性质。

中文名称：金属有机框架UiO-66-F4

英文名称：UiO-66-F4

CAS：2170275-20-2

产品规格：mg

外观：白色粉末

保存方式：密封保存、避光

保质期限：12个月

用途：科研

温馨提示：仅用于科研,不能用于人体

图片：

金属有机框架UiO-66-F4

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