产品介绍:
ROS 响应性介孔硅-MnO2的溶解性具有环境依赖性。在纯水中几乎不溶,仅能以混悬态存在,颗粒平均粒径约 200-300nm,静置 24 小时后出现轻微沉降。在 pH 5.5 的酸性缓冲液中,因 MnO2开始缓慢溶解,混悬液稳定性提高,粒径分布更均一。在含 100μmol/L H2O2的 ROS 模拟体系中,2 小时内溶解度提升 30%,4 小时后介孔结构部分解体,释放出 Mn²⁺离子,溶液呈现浅棕色。
制备方法:
介孔硅的制备:常用模板法制备介孔硅,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源。将 CTAB 溶解在去离子水中,加入氢氧化钠调节溶液 pH 值至 10 左右,在 50-80℃下搅拌使其完全溶解;随后缓慢滴加 TEOS,TEOS 在碱性条件下水解并与 CTAB 自组装形成介孔结构,反应持续 2-6 小时;反应结束后,将产物离心分离,用去离子水和乙醇多次洗涤,去除未反应的原料;最后将产物在 550℃下煅烧 4-6 小时,去除模板剂 CTAB,得到具有规则介孔结构的介孔硅粉末。
介孔硅表面修饰:为增强介孔硅与 MnO2的结合能力及赋予其 ROS 响应性,需对介孔硅表面进行修饰。将介孔硅分散在无水乙醇中,加入 3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES),在回流条件下反应 12-24 小时,使介孔硅表面引入氨基基团;反应结束后,离心分离并洗涤,得到氨基修饰的介孔硅。若需引入 ROS 响应性官能团(如二硫键、硼酸酯等),可将氨基修饰的介孔硅与含响应性官能团的化合物(如二硫代二丙酸、硼酸酯衍生物)在适当溶剂(如二甲基甲酰胺)中反应,通过酰胺键或共价键将响应性官能团连接到介孔硅表面,反应温度控制在室温至 60℃,反应时间 8-24 小时,最终得到表面修饰有 ROS 响应性基团的介孔硅。
MnO2的负载:采用原位沉积法将 MnO2负载到介孔硅表面及孔道内。将修饰后的介孔硅分散在去离子水中,加入高锰酸钾(KMnO₄)溶液,搅拌均匀后,缓慢滴加 MnSO₄溶液或盐酸羟胺等还原剂,在室温或 50℃下反应 2-4 小时;KMnO₄在还原剂作用下被还原为 MnO2,并在介孔硅表面及孔道内沉积形成 MnO2涂层;反应结束后,离心分离产物,用去离子水洗涤至滤液无色,去除未反应的金属离子和还原剂,将产物在 60-80℃下真空干燥 6-12 小时,得到 ROS 响应性介孔硅-MnO2复合材料。
中文名:活性氧响应性介孔二氧化硅-二氧化锰杂化纳米材料
英文名:ROS-Responsive Mesoporous Silica-Manganese Dioxide Hybrid Nanoparticles
别称:MS@MnO2纳米酶、ROS介导的智能纳米载体、氧化还原敏感型介孔硅-锰复合物
外观:黑色或深棕色粉末
溶解度:部分溶于DMF、DMSO
纯度:95%+
保存方式:-20℃,避光,防潮
保质期限:12个月
用途:科研
温馨提示:仅用于科研,不能用于人体
图片:
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